电子工业对水处理设备有什么要求？

在电子行业中的清洗过程都要用到水，随着高新技术的发展，对清洗系统的水处理设备要求越来越高，最有代表性的是微电子器件制备中对水的要求不断升级换代。现代微电子技术的伟大成就，来源于20世纪40年代对半导体理论的深入认识，40年代末半导体晶体管的发明，50年代末硅平面型工艺的发展与成熟以及60年代MOS场效应器件走向稳定可靠等一系列微电子技术的重要基础。

20年来集成电路制造技术，从5μm经历九代发展到当前的0.13μm技术。0.09μm技术投入生产的时间在2005年。根据2001年国际半导体协会发布的蓝图，世界集成电路的生产水平在2004年左右将进人0.1μm，2011年可望达到0.05μm。随着整个制造技术水平向0.1μm逼近，人类加工能力即将进入一个空前的高度。整个微电子领域的前沿热点从制造技术、器件物理、工艺物理到材料技术等方面随之全面进人100nm以下的纳米领域，微电子技术在高速发展的同时也面临着巨大的技术挑战。现代微电子技术的迅猛发展，使该行业对水的纯度要求越来越高（如下图），应用纯水的部门不断增多，纯水、超纯水的制取技术得到了人们越来越多的注意。