半导体行业中的纯水和超纯水有哪些工艺特点？

在半导体生产中，各种产品对水的纯度要求各不相同，通常将水分为纯水和超纯水两种。

纯水又称去离子水，即去掉阴离子、阳离子和有机物等杂质的水。将自来水等原水经沙滤器除去难溶于水的杂质，再经活性炭吸附除去有机物，再经反渗透水处理设备去除大部分可溶阴阳离子，最后经离子交换柱进行离子交换，即可除去水中的强电解质，同时可除去大部分硅酸及碳酸等弱电解质。纯水中的剩余含盐量一般应在1.0mg/L以下。通常半导体工艺清洗用的纯水，25℃时电阻率须在5MΩ·cm以上。

随着近年来大规模以及超大、特大规模集成电路的迅猛发展，一般的纯水因存在着较大的颗粒及浮游生物而不能满足工艺的需要，而超纯水以其自身诸多优势，在本领域得到了长足的使用和研究。所含的悬浮颗粒直径在0.45μm以下，细菌数在0～10个/ml、25℃时电阻率在10MΩ·cm以上的水称为超纯水或高纯水。将纯水在惰性气体的保护下经化学处理、蒸馏、膜滤及紫外线照射杀菌等方法处理后，便可获得超纯水。目前制出的超纯水纯度已能达到99.99999%，水的电阻率已能达到18MΩ·cm以上。但水中依然存在0.01mg/L的杂质离子。